Lapisan Silikon Nitrida Pecvd untuk Peningkatan Kinerja dan Daya Tahan

Hebei Suoyi New Material Technology Co., Ltd. dengan bangga memperkenalkan silikon nitrida PECVD kami, bahan berkualitas tinggi dan serbaguna yang menawarkan sifat mekanik, listrik, dan termal yang luar biasa, silikon nitrida PECVD kami diproduksi menggunakan uap kimia canggih yang ditingkatkan plasma teknologi deposisi (PECVD), memastikan lapisan film yang seragam dan padat dengan daya rekat yang sangat baik pada berbagai media. Hal ini menjadikannya pilihan ideal untuk berbagai aplikasi termasuk mikroelektronika, fotovoltaik, optoelektronik, dan perangkat biomedis. Dengan kekuatan dielektrik dan stabilitas termal yang tinggi, silikon nitrida PECVD kami adalah bahan isolasi yang andal untuk pengemasan sirkuit terpadu dan perangkat MEMS. Selain itu, karakteristik tegangan rendah dan tegangan tinggi membuatnya cocok untuk lapisan pelindung dan penghalang di industri semikonduktor. Di Hebei Suoyi, kami berdedikasi untuk menyediakan silikon nitrida PECVD kualitas unggul kepada pelanggan kami yang memenuhi standar kinerja dan keandalan tertinggi. . Hubungi kami hari ini untuk mempelajari lebih lanjut tentang silikon nitrida PECVD kami dan bagaimana hal itu dapat bermanfaat bagi kebutuhan aplikasi spesifik Anda